国内首个最新一代光掩膜版项目在川启动
编辑:王珏 来源:四川日报 发布时间:2018-01-19 09:31:06 浏览次数: 分享:

本报讯(颜斯睿记者熊筱伟)118日,路维光电高世代光掩膜版生产基地项目在成都高新区启动。这是国内首个G11光掩膜版项目,预计2018年四季度投产。

什么是掩膜版?“设计好的电路图形,要通过它来转移到载体上。”成都路维光电有限公司相关负责人介绍,掩膜技术是高端电子产品制造过程中非常重要的工序。光掩膜版是掩膜版的一种,主要用在平板显示、先进半导体集成电路等领域。我国高端掩膜版长期依赖进口,该项目投产后,将大大推动光掩膜版的国产化、本土化。

此次在川启动的G11光掩膜版项目,运用全球最新一代——第十一代光掩膜版技术,产品主要针对平板显示行业。项目总投资10亿元,计划建设6条高世代掩膜版生产线,预计年销售收入15亿元。

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